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本发明公开了一种将纳米压印和电子束曝光结合的纳米图形制备方法，属于微电子技术领域，包括：步骤一、将纳米图形分为不变部分和可变部分，利用版图绘制工具将两者分别绘制版图，其中，不变部分版图上需包含电子束曝光套刻标记；步骤二、取不变图形版图，制备...
该专利属于江苏华兴激光科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏华兴激光科技有限公司授权不得商用。

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