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本发明提供一种基板处理装置用的部件和皮膜形成方法，能够可 靠地防止因防蚀铝皮膜的破损而引起的颗粒的产生。作为对晶片(W) 实施等离子体处理的基板处理装置(10)的部件的冷却板(36)包括： 以在铝中含有硅的合金为主要成分的铝基材(56)；和...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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