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一种良率检测模型及其获取方法、检测良率分布的方法，获取方法包括：提供晶圆，包括若干第一曝光区和第二曝光区，若干所述第一曝光区沿第一方向和第二方向分布，第一方向和第二方向平行于晶圆表面且相互垂直，第一曝光区的形状包括矩形，任一第一曝光区内具有...
该专利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

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