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本发明的目的在提供一种在进行掩膜与工件的对位时，密封构件不会与掩膜台相接的接触曝光装置或接触曝光方法，接触曝光装置具备有：保持形成有图案的掩膜（２）的掩膜台（３）、及载置工件（４）的工件台（５），在掩膜台（３）或工件台（５）的周边部安装环状...
该专利属于优志旺电机株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过优志旺电机株式会社授权不得商用。

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