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一种光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法，其中，光学邻近修正方法包括：获取初始版图；对初始版图进行曝光处理，获取初始曝光版图；当在初始曝光版图中检测到缺陷时，以预设最小移动步长，对初始版图进行n次探测光学邻近迭代修正；在所述n次探测光学邻近迭...
该专利属于中芯国际集成电路制造(北京)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造(北京)有限公司授权不得商用。

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