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本发明公开了一种半导体行业用聚四氟乙烯过滤膜的制备方法,属于膜制备技术领域中的聚四氟乙烯过滤膜的制备,其目的在于解决现有技术中聚四氟乙烯过滤膜的过滤精度较低、无法达到10nm的技术问题。制备时,基带在横向拉伸的过程中,在预热区,基带被加热到...该专利属于安徽省众望科希盟科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过安徽省众望科希盟科技有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种半导体行业用聚四氟乙烯过滤膜的制备方法,属于膜制备技术领域中的聚四氟乙烯过滤膜的制备,其目的在于解决现有技术中聚四氟乙烯过滤膜的过滤精度较低、无法达到10nm的技术问题。制备时,基带在横向拉伸的过程中,在预热区,基带被加热到...