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本发明公开了一种化学机械抛光装置和抛光方法，所述化学机械抛光装置包括抛光盘；承载头，用以接收并加载晶圆于所述抛光盘上部的抛光垫；所述抛光盘顶面设置有凹槽，所述凹槽与抛光垫形成密封腔，压力调节部与所述密封腔连通以调节腔室压力，以使凹槽上侧的抛...
该专利属于华海清科股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华海清科股份有限公司授权不得商用。

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