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本发明公开一种能够更换消耗品的基板处理装置，是一种维持基板处理装置的腔室工艺环境的同时，能够更换喷头、聚焦环等消耗品的支持方案。根据本发明的能够更换消耗品的基板处理装置包括：工艺腔室，设有执行基板处理工艺的处理空间；升降部件，配置在所述工艺...
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