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本发明公开了一种超导腔等离子体清洗气路装置及其使用方法，包括连接在超导腔两端的上游气路系统和下游气路系统，给超导腔提供等离子体清洗所需的高纯惰性气体和高纯氧气，在等离子体清洗开始前，利用超导腔上游气路系统的快速充气机构和下游气路系统的洗气辅...
该专利属于中国科学院高能物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院高能物理研究所授权不得商用。

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