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磁存储单元制造技术
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文档序号:3747855
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本发明提出一种磁存储单元,包括:第一晶体管,所述第一晶体管的栅电极与位线相连;位于所述第一晶体管的沟道绝缘层和栅电极之间的磁性隧道结MTJ;和第二晶体管,所述第二晶体管的源/漏极之一与所述MTJ串行连接,其中,所述磁存储单元的写操作由所述第...
该专利属于清华大学所有,仅供学习研究参考,未经过清华大学授权不得商用。
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