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本发明涉及计算光刻与物理设计中的绕线的交叉领域，特别涉及一种版图中光刻坏点的检测修复方法、系统及计算机介质，本发明的版图中光刻坏点的检测修复方法包括以下步骤：获取初始版图；基于初始版图得到初始物理设计版图；对初始物理设计版图进行光刻坏点检测...
该专利属于华芯巨数（杭州）微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华芯巨数（杭州）微电子有限公司授权不得商用。

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