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一种MEMS器件及其制造方法，该方法包括：提供第一衬底和第二衬底，第二衬底的第一表面形成有第一MEMS结构和第二MEMS结构，第一衬底包括第一区域和第二区域；在第一衬底的第一表面的第一区域形成无定型硅结构；形成覆盖无定型硅结构的保护层；图案...
该专利属于绍兴中芯集成电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过绍兴中芯集成电路制造股份有限公司授权不得商用。

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