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本发明提供了一种基于对抗性光照的模型水印抹除方法及设备。所述方法包括：步骤1，估计目标的光照，为改变图像的光照，通过添加光照扰动获取光照的强度和位置，所需的光照扰动在不牺牲预测良性样本的能力的情况下破坏水印验证的触发器，扰动会误导分类模型的...
该专利属于武汉大学所有，仅供学习研究参考，未经过武汉大学授权不得商用。

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