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本发明公开了一种高精度氮化铝覆铝基板的蚀刻方法，涉及陶瓷基板制备领域，旨在解决基板图形容易绝缘失效的问题，其技术方案是：步骤一，图形制备：制备蚀刻图形，取氮化铝覆铝母板基板显影得到需要蚀刻的图形边缘间隙；步骤二，超声空化蚀刻：置于超声振动条...
该专利属于江苏富乐华半导体科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏富乐华半导体科技股份有限公司授权不得商用。

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