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本发明提供一种发光二极管芯片的返工方法，方法包括：首先对待返工的发光二极管芯片进行一次酸浸泡处理，之后对所述发光二极管芯片进行一次氟化物浸泡处理，之后对所述发光二极管芯片进行二次酸浸泡处理，之后采用芯片清洗剂浸泡所述发光二极管芯片，然后采用...
该专利属于武汉优炜芯科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉优炜芯科技有限公司授权不得商用。

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