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本实用新型涉及电子玻璃刻蚀设备技术领域，尤其是指一种用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微孔气流装置，包括吸附平台、上光刻蚀器、下光刻蚀器及两个微孔气流机构，吸附平台的中部开设有光刻蚀空腔，上光刻蚀器和下光刻蚀器同轴地相对设置，上光刻蚀器和下光...
该专利属于广东科技学院所有，仅供学习研究参考，未经过广东科技学院授权不得商用。

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