本实用新型专利技术涉及电子玻璃刻蚀设备技术领域，尤其是指一种用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微孔气流装置，包括吸附平台、上光刻蚀器、下光刻蚀器及两个微孔气流机构，吸附平台的中部开设有光刻蚀空腔，上光刻蚀器和下光刻蚀器同轴地相对设置，上光刻蚀器和下光刻蚀器分别位于光刻蚀空腔的上下两侧，两个微孔气流机构分布于光刻蚀器的两侧。本实用新型专利技术能够实现对电子玻璃进行双面刻蚀，在光刻蚀时优化了电子玻璃的光刻蚀区域的平面度，提高了电子玻璃的光刻蚀精度和质量，且使得吸附平台的中部呈中空状，吸附平台的中部不需要设置横梁吸附结构，简化了吸附平台的结构。简化了吸附平台的结构。简化了吸附平台的结构。
【技术实现步骤摘要】
一种用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微孔气流装置
[0001]本技术涉及电子玻璃刻蚀设备
，尤其是指一种用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微孔气流装置。
技术介绍
[0002]在3C制造领域、新型显示行业、半导体行业、集成电路行业等实际产品制造过程中，涉及电子玻璃应用范围越来越广，如：电容式触控屏，平板显示等领域。在电子玻璃实际加工应用中，电子玻璃一般放置在横梁架平台上，然后采用真空吸附将电子玻璃吸附在横梁架平台上。例如，电子玻璃在双面光蚀刻工艺中，因为需要双面同时蚀刻，电子玻璃只能悬空放置在横梁架平台的表面，电子玻璃被真空吸附在横梁架平台的表面，在电子玻璃吸附过程中或电子玻璃本身会产生微变形量，电子玻璃的实际轮廓与理想平面度相差一定距离。在光刻蚀工艺中，电子玻璃产生微观变形量，从而影响电子玻璃平面度精度，降低电子玻璃蚀刻的线路质量及精度。
[0003]申请号为201120434750.1的中国专利文件公开了一种脉冲激光刻蚀双面ITO玻璃上导电膜层的装置，其膜材的正面和背面各布置一套脉冲激光刻蚀装置，每套脉冲激光刻蚀装置包含高频率短脉冲激光器、半透半反镜、格兰棱镜和全反镜，高频率短脉冲激光器输出端依次布置光闸、扩束镜和半透半反镜，半透半反镜输出端布置第一1/2波片和全反镜，第一1/2波片输出端依次布置第一格兰棱镜和第一3D动态聚焦镜，第一3D动态聚焦镜输出端布置第一振镜，全反镜输出端布置第二1/2波片，第二1/2波片输出端依次布置第二格兰棱镜和第二3D动态聚焦镜，第二3D动态聚焦镜输出端布置第二振镜，第一振镜和第二振镜输出端均正对于膜材表面。该专利文件是直接通过两套脉冲激光刻蚀装置分别对玻璃的上下两侧面进行光刻蚀，无法解决玻璃被夹紧气缸夹紧固定所产生的微变形量而导致玻璃光刻蚀的线路质量和精度差的问题。
[0004]因此，缺陷十分明显，亟需提供一种解决方案。
技术实现思路
[0005]为了解决上述技术问题，本技术的目的在于提供一种用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微孔气流装置。
[0006]为了实现上述目的，本技术采用如下技术方案：
[0007]一种用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微孔气流装置，其包括吸附平台、上光刻蚀器、下光刻蚀器及两个微孔气流机构，吸附平台的中部开设有光刻蚀空腔，上光刻蚀器和下光刻蚀器同轴地相对设置，上光刻蚀器和下光刻蚀器分别位于光刻蚀空腔的上下两侧，两个微孔气流机构分布于上光刻蚀器的两侧，吸附平台用于吸紧电子玻璃的边缘，两个微孔气流机构用于向吸附平台所吸附的电子玻璃施加正压微气流，上光刻蚀器和下光刻蚀器分别对电子玻璃的两侧面进行光刻蚀。
[0008]进一步地，微孔气流机构包括安装板、设置于安装板的平面度调节模组、设置于平
面度调节模组的调节端的气压腔体、连接于气压腔体的下方的微孔体及与气压腔体连接的供气组件，供气组件与气压腔体的内腔连通，微孔体设置有多个微气流孔，多个微气流孔均与气压腔体的内腔连通。
[0009]进一步地，供气组件包括供气管及设置于供气管的调节阀，供气管经由调节阀与气压腔体的内腔连通。
[0010]进一步地，气压腔体装设有接头，供气管与接头连接，供气管经由接头与气压腔体的内腔连通。
[0011]进一步地，气压腔体的内腔连通有压力表。
[0012]进一步地，微孔体为微孔陶瓷块，微气流孔为微米级通孔。
[0013]进一步地，平面度调节模组包括分别螺纹贯穿安装板的多个拉力调节螺栓和多个推力调节螺栓，多个推力调节螺栓均匀地分布于多个拉力调节螺栓的外侧，拉力调节螺栓的底端与气压腔体的顶部转动连接，推力调节螺栓的底端用于与气压腔体的顶部抵触。
[0014]进一步地，多个拉力调节螺栓呈直线排列并位于气压腔体的中部位置，多个推力调节螺栓对称地分布于多个拉力调节螺栓的两侧。
[0015]进一步地，还包括连接板，上光刻蚀器、下光刻蚀器和两个微孔气流机构均与连接板连接。
[0016]进一步地，吸附平台的边缘设置有多个吸附孔。
[0017]本技术的有益效果：在实际应用中，将电子玻璃放置在吸附平台上，吸附平台将电子玻璃的边缘吸紧，电子玻璃的待光刻蚀部位显露于吸附平台的光刻蚀空腔内，外部的供气机构与两个微孔气流机构连通并向两个微孔气流机构供应正压气体，在上光刻蚀器和下光刻蚀器分别对电子玻璃的上下两侧面进行光刻蚀的同时，两个微孔气流机构所产生的正压微气流分别作用在电子玻璃的上下两侧面，外部的移动驱动机构驱动上光刻蚀器、下光刻蚀器和两个微孔气流机构同步移动，以完成对电子玻璃的光刻蚀。由于电子玻璃本身产生的微变形量或者在吸附平台吸附电子玻璃的边缘时，电子玻璃会发生微观变形，所以通过两个微孔气流机构分布在上光刻蚀器的两侧，既可以保护电子玻璃的表面，又可以利用气压优化电子玻璃的光刻蚀区域的微观变形量，以优化电子玻璃的中部微观变形量，有利于解决常规刻蚀工艺条件下局部断点或变形问题，从而提高电子玻璃在光刻蚀时的加工平面度。本技术能够实现对电子玻璃进行双面刻蚀，在光刻蚀时优化了电子玻璃的光刻蚀区域的平面度，提高了电子玻璃的光刻蚀精度和质量，且使得吸附平台的中部呈中空状，吸附平台的中部不需要设置横梁吸附结构，简化了吸附平台的结构。
附图说明
[0018]图1为本技术的结构示意图。
[0019]图2为本技术的两个微孔气流机构的立体结构示意图。
[0020]附图标记说明：
[0021]1、吸附平台；2、上光刻蚀器；3、下光刻蚀器；4、微孔气流机构；5、光刻蚀空腔；6、安装板；7、平面度调节模组；8、气压腔体；9、微孔体；10、供气组件；11、微气流孔；12、供气管；13、调节阀；14、压力表；15、拉力调节螺栓；16、推力调节螺栓；17、电子玻璃；18、接头。
具体实施方式
[0022]为了便于本领域技术人员的理解，下面结合实施例与附图对本技术作进一步的说明，实施方式提及的内容并非对本技术的限定。
[0023]如图1和图2所示，本技术提供的一种用于优化电子玻璃17刻蚀加工平面度的微孔气流装置，其包括吸附平台1、上光刻蚀器2、下光刻蚀器3及两个微孔气流机构4，吸附平台1的中部开设有光刻蚀空腔5，上光刻蚀器2和下光刻蚀器3同轴地相对设置，上光刻蚀器2和下光刻蚀器3分别位于光刻蚀空腔5的上下两侧，两个微孔气流机构4分布于上光刻蚀器2的两侧，吸附平台1用于吸紧电子玻璃17的边缘，两个微孔气流机构4用于向吸附平台1所吸附的电子玻璃17施加正压微气流，上光刻蚀器2和下光刻蚀器3分别对电子玻璃17的两侧面进行光刻蚀。
[0024]一种应用上述用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微孔气流装置的刻蚀方法，包括以下方法步骤：
[0025]A、将电子玻璃17放置在吸附平台1上，吸附平台1吸紧电子玻璃17的边缘，电子玻璃17的光刻蚀区域显露于吸附平台1的光刻蚀空腔5；
[0026]B、上光刻蚀器2和下光刻蚀器3分别位于电子玻本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微孔气流装置，其特征在于：包括吸附平台(1)、上光刻蚀器(2)、下光刻蚀器(3)及两个微孔气流机构(4)，吸附平台(1)的中部开设有光刻蚀空腔(5)，上光刻蚀器(2)和下光刻蚀器(3)同轴地相对设置，上光刻蚀器(2)和下光刻蚀器(3)分别位于光刻蚀空腔(5)的上下两侧，两个微孔气流机构(4)分布于上光刻蚀器(2)的两侧，吸附平台(1)用于吸紧电子玻璃(17)的边缘，两个微孔气流机构(4)用于向吸附平台(1)所吸附的电子玻璃(17)施加正压微气流，上光刻蚀器(2)和下光刻蚀器(3)分别对电子玻璃(17)的两侧面进行光刻蚀。2.根据权利要求1所述的一种用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微孔气流装置，其特征在于：微孔气流机构(4)包括安装板(6)、设置于安装板(6)的平面度调节模组(7)、设置于平面度调节模组(7)的调节端的气压腔体(8)、连接于气压腔体(8)的下方的微孔体(9)及与气压腔体(8)连接的供气组件(10)，供气组件(10)与气压腔体(8)的内腔连通，微孔体(9)设置有多个微气流孔(11)，多个微气流孔(11)均与气压腔体(8)的内腔连通。3.根据权利要求2所述的一种用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微孔气流装置，其特征在于：供气组件(10)包括供气管(12)及设置于供气管(12)的调节阀(13)，供气管(12)经由调节阀(13)与气压腔体(8)的内腔连通。4.根据权利要求3所述的一种用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微孔气流装置，其特征在于：气压...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈绒，唐联耀，武晓云，马丽心，郑清华，林文杰，
申请(专利权)人：广东科技学院，
类型：新型
国别省市：
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