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本发明公开了一种等离子体工艺处理装置。该装置包括：射频电源，射频电源用于提供射频信号；真空腔体，真空腔体内设有第一电极板和第二电极板，第一电极板用于与射频电源电连接；真空腔体的第一目标腔壁用于与地端电连接；第二电极板与第一目标腔壁间隔设置以...
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