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一种用于在挠性衬底（１０）（２８）上制备电阻器的技术。具体地，至少部分聚酰亚胺衬底（１０）（２８）通过暴露于离子溅射刻蚀技术而活化。在衬底（１０）（２８）的活化区域（１２）（３４）上沉积金属层（１４）（３６），由此导致形成高电阻金属碳化物区...
该专利属于通用电气公司所有，仅供学习研究参考，未经过通用电气公司授权不得商用。

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