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本发明公开了一种热电器件及其制备方法,制备方法包括以下步骤:S1、在陶瓷下基底表面设置下电极层,在陶瓷下基底表面沉积阻隔墙,相邻阻隔墙之间设有预留空间;S2、遮挡阻隔墙,在预留空间中的下电极层表面沉积下阻隔层;S3、在下阻隔层表面交替喷墨打...该专利属于纯钧新材料(深圳)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过纯钧新材料(深圳)有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种热电器件及其制备方法,制备方法包括以下步骤:S1、在陶瓷下基底表面设置下电极层,在陶瓷下基底表面沉积阻隔墙,相邻阻隔墙之间设有预留空间;S2、遮挡阻隔墙,在预留空间中的下电极层表面沉积下阻隔层;S3、在下阻隔层表面交替喷墨打...