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本发明的晶片清洗水供给装置(1)具有：由从供给路(5)供给的超纯水(W)制备晶片清洗水(W1)的晶片清洗水制造部(2)；该制备的晶片清洗水的贮留槽(3)；以及将贮留在该贮留槽(3)中的晶片清洗水(W1)向清洗机(4)的清洗喷嘴(4A)供给的...
该专利属于栗田工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过栗田工业株式会社授权不得商用。

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