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本发明提供一种曝光装置，即使是具有由有机材料构成的印刷布线基板所特有的不均匀而且较大变形的基板，也能够实现最佳定位。全体变倍单元（２）在ｘｙ方向上以相同倍率即倍率Ｓｗ放大缩小光掩膜（７）的图案，单变倍单元（１）与全体变倍单元（２）独立地在任...
该专利属于株式会社阿迪泰克工程所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社阿迪泰克工程授权不得商用。

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