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本发明提供一种曝光装置和基板的矫正装置，该曝光装置可进行基板的矫正。对密封件（３）施加正压使其伸展，使其与曝光工作台（１）接触，从而生成密闭空间（９０），通过真空抽吸孔（４０）和真空泵（４）对密闭空间（９０）进行抽吸，借助于大气压来按压板（...
该专利属于株式会社阿迪泰克工程所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社阿迪泰克工程授权不得商用。

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