下载一种等离子体光刻成像方法及装置的技术资料

文档序号:37422583

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本申请实施例提供一种等离子体光刻成像方法及装置,包括:获取等离子体光刻成像的目标成像结构,目标成像结构包括呈周期性变化的目标掩模图形,将目标掩模图形输入快速成像模型,得到目标掩模图形对应的目标等离子体光刻成像,快速成像模型是利用目标成像结构...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。

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