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本公开提供了一种气体输送装置、气体输送系统和等离子体处理装置。该气体输送装置用于向处理腔室的沿其周向分布的边缘区域输送工艺气体,该气体输送装置包括:第一进气单元,包括多个沿其周向分布的气体通道并配置为分别向处理腔室输送工艺气体;第二进气单元...该专利属于北京屹唐半导体科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过北京屹唐半导体科技股份有限公司授权不得商用。
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