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本实用新型提供了一种掩膜版曝光压合固定治具，包括：底座，具有承载面，所述承载面的四角设置有旋转下压件；平台，位于所述承载面上，用于放置基材和掩膜版，所述基材、掩膜版向远离平台的方向依次紧贴放置；当依次放置好基材和掩膜版后，所述旋转下压件旋转...
该专利属于廊坊晶正光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过廊坊晶正光电技术有限公司授权不得商用。

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