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本发明构思提供了一种基板处理方法。所述基板处理方法包括：通过将过程等离子体传送到腔室的处理空间来处理基板；以及通过将清洁介质供应到定位在所述处理空间下方的所述腔室的排气空间来清洁排气空间。的排气空间来清洁排气空间。的排气空间来清洁排气空间。...
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