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本发明公开了一种基于Parylene涂层的真空灭弧室和制造方法，包括Parylene涂层；所述Parylene涂层设置在真空灭弧室的内部；所述Parylene涂层的涂覆部位包括真空灭弧室外壳的内壁、屏蔽罩的外壁、静端端盖和动端端盖；所述Pa...
该专利属于西安交通大学所有，仅供学习研究参考，未经过西安交通大学授权不得商用。

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