一种基于Parylene涂层的真空灭弧室和制造方法技术

本发明专利技术公开了一种基于Parylene涂层的真空灭弧室和制造方法，包括Parylene涂层；所述Parylene涂层设置在真空灭弧室的内部；所述Parylene涂层的涂覆部位包括真空灭弧室外壳的内壁、屏蔽罩的外壁、静端端盖和动端端盖；所述Parylene涂层的原料为聚对二甲苯，二氯代聚对二甲苯和一氯代聚对二甲苯。用于解决真空灭弧室工作时不同平面衔接部分电场分布不均，影响可靠性的问题；能提高真空灭弧室的绝缘性能。能。能。

【技术实现步骤摘要】
一种基于Parylene涂层的真空灭弧室和制造方法


[0001]本专利技术属于真空灭弧室领域，具体属于一种基于Parylene涂层的真空灭弧室和制造方法。

技术介绍

[0002]真空灭弧室，又名真空开关管，是中高压电力开关的核心部件，其主要作用是，通过管内真空优良的绝缘性使中高压电路切断电源后能迅速熄弧并抑制电流，避免事故和意外的发生，具有体积小、寿命长、维护费用低、运行可靠和无污染等特点。真空灭弧室主要由气密绝缘外壳、导电回路、屏蔽系统、触头、波纹管等部分组成。
[0003]真空灭弧室工作时，触头在燃弧过程中会产生金属蒸汽和液滴喷溅到端盖，屏蔽罩和绝缘外壳内壁上，端盖和绝缘外壳内壁和屏蔽罩由于制作工艺以及使用时间长会有毛刺，缺口，会改变灭弧室内的电场结构，导致灭弧室内部封装时不同平面衔接部分电场分布不均，进而影响可靠性。

技术实现思路

[0004]为了解决现有技术中存在的问题，本专利技术提供一种基于Parylene涂层的真空灭弧室和制造方法，用于解决真空灭弧室工作时不同平面衔接部分电场分布不均，影响可靠性的问题；能提高本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于Parylene涂层的真空灭弧室，其特征在于，包括Parylene涂层(12)；所述Parylene涂层(12)设置在真空灭弧室的内部；所述Parylene涂层(12)的涂覆部位包括真空灭弧室外壳(2)的内壁、屏蔽罩(4)的外壁、静端端盖(1)和动端端盖(11)；所述Parylene涂层(12)的原料为聚对二甲苯，二氯代聚对二甲苯和一氯代聚对二甲苯。2.根据权利要求1所述的一种基于Parylene涂层的真空灭弧室，其特征在于，所述Parylene涂层(12)为N型Parylene层或C型Parylene层或D型Parylene层或C型Parylene和N型Parylene的复合层或C型Parylene和D型Parylene的复合层或N型Parylene和D型Parylene的复合层，或C型Parylene和D型Parylene和N型Parylene的复合层。3.根据权利要求2所述的一种基于Parylene涂层的真空灭弧室，其特征在于，单层N型Parylene层或C型Parylene层或D型Parylene层的厚度范围为10
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50μm。4.根据权利要求2所述的一种基于Parylene涂层的真空灭弧室，其特征在于，C型Parylene和N型Parylene的复合层或C型Parylene和D型Parylene的复合层或N型Parylene和D型Parylene的复合层厚度范围为20
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100μm。5.根据权利要求2所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘思远，王柳丹，金敬勇，陈金超，陈奕帆，薄祥来，刘志远，耿英三，王建华，
申请(专利权)人：西安交通大学，
类型：发明
国别省市：