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本发明提供一种吸气剂薄膜结构的制造方法，包括步骤：在基板的一个主面上方形成第一吸气剂薄层，在第一吸气剂薄层中形成间隔排布的多个沟槽，以形成图形吸气剂薄层；在沟槽内填充图形牺牲层，并在图形牺牲层及图形吸气剂薄膜上形成第二吸气剂薄层；去除图形牺...
该专利属于上海新微技术研发中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海新微技术研发中心有限公司授权不得商用。

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