温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了显示器件像素电极结构的制备方法，包括：形成反射金属层；形成第一透明微腔层；形成图形化的第一牺牲层，第一牺牲层阻挡住第一像素区、第三像素区；生长第二透明微腔层，再去除第一牺牲层，形成图形化的第二透明微腔层；并以相同方法形成图形化的...
该专利属于南京国兆光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过南京国兆光电科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。