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本申请涉及半导体晶片清洗领域，公开了一种高强度喷淋管，包括喷管主体，喷管主体内设置有支撑网，支撑网抵接在喷管主体的内侧壁上，喷管主体的内侧壁上设置有支撑层，且支撑网设置在支撑层内。本申请具有能够通过采用支撑网和支撑层对喷管主体的内侧壁进行支...
该专利属于上海沃特华本半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海沃特华本半导体科技有限公司授权不得商用。

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