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使用用于缺陷检验的激光功率控制的大粒子监控制造技术
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下载使用用于缺陷检验的激光功率控制的大粒子监控的技术资料
文档序号:37363368
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使用主激光束及副激光束检验半导体晶片。所述副激光束领先所述主激光束且具有低于所述主激光束的功率。使用所述副激光束,在所述半导体晶片上检测具有满足阈值的大小的粒子。响应于检测到所述粒子,降低所述主激光束的所述功率及所述副激光束的所述功率。所述...
该专利属于科磊股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过科磊股份有限公司授权不得商用。
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