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用于沉积和蚀刻的半导体处理腔室制造技术
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文档序号:37355554
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示例性半导体基板支撑件可以包括底座轴。半导体基板支撑件可以包括工作台。工作台可以限定跨越工作台的第一表面的流体通道。半导体基板支撑件可以包括定位在工作台和底座轴之间的工作台绝缘体。半导体基板支撑件可包含传导性圆盘,所述传导性圆盘与工作台的第...
该专利属于应用材料公司所有,仅供学习研究参考,未经过应用材料公司授权不得商用。
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