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一种半导体结构及其形成方法，方法包括：提供衬底，衬底包括器件区和隔离区，器件区和隔离区的衬底上形成有凸立的鳍部；在鳍部露出的衬底顶部形成第一隔离层，第一隔离层覆盖鳍部的顶部和侧壁；在隔离区中，去除第一隔离层、鳍部和部分厚度的衬底，在隔离区的...
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