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一种用于钎焊基片表面的方法，它提供低的离子杂质而无需清洁操作，它包括以下步骤：（ａ）将氟化亚锡或其易熔混合物施加于基片表面上，（ｂ）将钎料施加到（ａ）中施加了的钎剂上。可以将比较钝化的氟化亚锡在低于其熔融温度下施加到基片的表面，经过这样处理...
该专利属于纳慕尔杜邦公司所有，仅供学习研究参考，未经过纳慕尔杜邦公司授权不得商用。

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