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本发明提供一种大马士革结构的制备方法，在双大马士革通孔硬掩模主刻蚀前，加入前置步骤，于刻蚀腔中通入氩气及氢气，通过对刻蚀机功能改进使得对通入刻蚀腔体的氩气和氢气发生施加外部功率从而产生电化学反应，让光刻胶表面发生链化聚合反应形成致密高分子膜...
该专利属于联合微电子中心有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过联合微电子中心有限责任公司授权不得商用。

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