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本发明公开了一种用于集成电路的厚膜光刻胶显影液组合物，属于湿电子化学品领域。按质量百分数之和为100%计，所述组合物中各组分及其所占质量百分数为：无机碱0.1
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该专利属于福建省佑达环保材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过福建省佑达环保材料有限公司授权不得商用。

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