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本申请公开了一种双枚叶式半导体加工装置和半导体加工方法。半导体加工装置包括第一、第二加工结构,所述第一加工结构包括一用于放入目标基材的负载反应室、一用于排出所述目标基材的脱料反应室、多个脱气反应室;所述第二加工结构包括多个预清洗反应室和多个...该专利属于深圳市矩阵多元科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳市矩阵多元科技有限公司授权不得商用。
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本申请公开了一种双枚叶式半导体加工装置和半导体加工方法。半导体加工装置包括第一、第二加工结构,所述第一加工结构包括一用于放入目标基材的负载反应室、一用于排出所述目标基材的脱料反应室、多个脱气反应室;所述第二加工结构包括多个预清洗反应室和多个...