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平板式电阻电容及其制造方法技术
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文档序号:3732600
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本发明涉及一种平板式电阻电容及其制造方法,其特点是:利用压板技术在高介电系数基材表、底面分别形成铜层而构成基板,又在基板上依序进行光阻涂布、影像转移、蚀刻等步骤后构成平板式电容,随后将具有高电阻系数的导电层印刷至基板的适当位置以构成平板式电...
该专利属于华通电脑股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过华通电脑股份有限公司授权不得商用。
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