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基板处理装置具有：第1喷嘴，其与使所述多张基板在反应管内排列的基板排列区域中的供多个产品基板排列的第1区域相对应地配置，向反应管内供给含氢气体；第2喷嘴，其与第1区域相对应地配置，向反应管内供给含氧气体；第3喷嘴，其与比第1区域靠底开口侧的...
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