下载用于电浆工艺的真空腔体的技术资料

文档序号:37308982

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本实用新型的实施例提供了一种用于电浆工艺的真空腔体,包括:上腔体,用于释放电浆;下腔体,与上腔体密封接合,下腔体用于容纳以下结构:电极,用于承载接受电浆工艺的产品;温控板,位于电极下方,温控板中具有复数个贯穿孔,复数个贯穿孔用于容纳热传导液...
该专利属于日月光半导体制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过日月光半导体制造股份有限公司授权不得商用。

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