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本发明公开了一种真空吸盘治具,包括底盘,所述底盘内设有第一通道,所述第一通道的其中一端连通于所述底盘外;还包括周向活动块,所述周向活动块在所述底盘的周向上与所述底盘滑动连接,所述周向活动块上设有第二通道,所述第二通道的其中一端与所述第一通道...该专利属于杭州盾源聚芯半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过杭州盾源聚芯半导体科技有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种真空吸盘治具,包括底盘,所述底盘内设有第一通道,所述第一通道的其中一端连通于所述底盘外;还包括周向活动块,所述周向活动块在所述底盘的周向上与所述底盘滑动连接,所述周向活动块上设有第二通道,所述第二通道的其中一端与所述第一通道...