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提供一种对从半导体工程产生并向真空泵移动的废气进行处理的半导体工程废气处理装置。半导体工程废气处理装置包括：等离子体生成部，其生成等离子体；反应腔室，其通过所述等离子体分解全氟化合物生成分解气体；以及气体供应部，其将来自所述反应腔室的分解气...
该专利属于等离子科学系统株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过等离子科学系统株式会社授权不得商用。

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