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本发明涉及一种微条气体室探测器基板的制造方法，它是采用热丝化学气相沉积法由硅基片上沉积ＣＶＤ金刚石膜而制成。先对ｎ型（１００）单晶硅基片预处理，然后放入热丝化学气相沉积装置的真空反应室中充入反应气体乙醇和氢气，经氢等离子体清洗、碳化、偏压增...
该专利属于上海大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海大学授权不得商用。

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