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本发明公开了一种双料盘循环上料、存盘装置及其双料盘循环上料、存盘工艺，包括机架、水平传送机构、升降机构、移载机构、错位供料机构及存盘机构，机架水平设置，机架内部设有安装空间，该安装空间包括并列设置的存盘空间及上料空间，机架的顶部两侧边上分别...
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