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本发明公开了一种自动清洗的MPCVD设备以及该设备的清洗方法，该设备包括带有透波窗口(5)的腔体(1)、位于所述腔体(1)内的基片台(2)、位于所述腔体(1)上方的微波源(3)以及均匀缠绕所述腔体(1)的导电线圈(4)，所述导电线圈(4)连...该专利属于航天科工（长沙）新材料研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过航天科工（长沙）新材料研究院有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种自动清洗的MPCVD设备以及该设备的清洗方法，该设备包括带有透波窗口(5)的腔体(1)、位于所述腔体(1)内的基片台(2)、位于所述腔体(1)上方的微波源(3)以及均匀缠绕所述腔体(1)的导电线圈(4)，所述导电线圈(4)连...