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本发明公开了一种高纯锑溅射靶材及其制备方法，属于靶材制备技术领域。本发明所述高纯锑溅射靶材的制备方法以水淬后的锑颗粒为原料，经过粒度调节后纯化，以颗粒形式直接入模成坯并最终制备溅射靶材；所述方法有效解决了锑金属加工难度大的缺陷，同时制备的产...
该专利属于先导薄膜材料（广东）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过先导薄膜材料（广东）有限公司授权不得商用。

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