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本实用新型属于硅片清洗技术领域，具体为一种硅片清洗装置，包括清洗池，所述清洗池一侧设置有待洗台，待洗台上设置有推料组和限位板，清洗池前后内壁上均安装有两个立柱，立柱的上表面设置有顶板，四个立柱滑动连接有放料框，放料框上表面设置有升降机构，清...
该专利属于洛阳赛莱克电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过洛阳赛莱克电子有限公司授权不得商用。

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