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本发明涉及二维材料的可控刻蚀领域，具体公开了一种二维材料周期性孔阵列可控制备方法，采用激光对MX2二维材料进行阵列化刻蚀，得到周期性的点缺陷阵列MX2二维材料；所述的M为金属元素，所述的X为S、Se中的至少一种；将点缺陷阵列MX2二维材料在...
该专利属于湖南大学所有，仅供学习研究参考，未经过湖南大学授权不得商用。

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